上传时间：2026/7/24 16:14:36 来源：易买仪器网 点击：4
在半导体制造的精密世界中，真空环境是芯片光刻、薄膜沉积、离子注入等核心工艺的基础保障。临海谭氏推出的T系列双级旋片式真空泵，凭借其高可靠性、低振动、耐腐蚀及智能防护设计，已成为半导体设备制造商与晶圆厂信赖的真空解决方案，为良率提升与工艺稳定性提供坚实支撑。
一、高精度抽速匹配，满足多制程真空需求
半导体制造不同环节对真空度与抽速要求差异显著。T系列提供从T8D到T90D的完整型号矩阵，50Hz名义抽速覆盖8m3/h至90m3/h，可灵活适配前道清洗、CVD/PVD镀膜、刻蚀等不同设备需求。其关气镇极限分压强低至5×10?2Pa，确保在高真空腔体中实现稳定抽气，满足先进制程对洁净度与均匀性的严苛要求。
二、耐腐蚀材料与防返油设计，保障工艺纯净度
半导体工艺中常涉及腐蚀性气体（如Cl?、SF?）与水蒸气，T系列泵体内部采用耐腐蚀材料及工艺，有效抵抗化学侵蚀，延长设备寿命。内置主动防返油阀设计，可在停机瞬间阻断油液回流，避免油污污染真空腔体与晶圆表面，从源头杜绝因油污染导致的良率损失。
三、可调气镇与强制供油，适应复杂工况
针对不同工艺对水蒸气排出量的差异化需求，T系列配备可调节气镇阀，精准控制水蒸气抽除能力（最高达1200g/h），避免水汽凝结影响薄膜质量。同时，恒定稳压的强制供油结构确保在高压强下仍能低噪音、稳定运行，减少振动对精密光学系统与机械臂的干扰，提升设备整体可靠性。
四、低维护成本与专利加持，降低运维压力
T系列零部件数量少，结构设计简洁，大幅简化后期维护保养流程。四项专利成果转化应用，涵盖气路优化、密封结构与润滑系统，进一步提升运行效率与耐用性。搭配可选KF25/KF40油雾过滤器，可有效拦截排气中的油雾颗粒，保护后端排气系统与环境，符合半导体工厂对洁净排放的高标准要求。
五、广泛适配半导体生态，赋能国产替代
从实验室研发到量产线部署，T系列已广泛应用于半导体设备制造、空间模拟测试、真空镀膜等环节。其紧凑尺寸（最小520×175×285mm）与轻量化设计（最轻33kg），便于集成于各类设备中；220V/380V双电压支持，适配全球主流工业电源标准，助力国产半导体装备走向国际市场。
在半导体产业加速自主可控的背景下，临海谭氏T系列真空泵以“稳定、洁净、智能”的核心优势，正成为连接基础真空技术与高端制造工艺的关键纽带，为中国芯的崛起提供不可或缺的底层支撑。
